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CVD氣相沉積的高溫分解反應過程和特點說明

更新時間：2023-06-27 點擊次數(shù)：2835

    CVD氣相沉積是一種生產(chǎn)高質(zhì)量固體薄膜和涂層的*技術(shù)。盡管已廣泛用于現(xiàn)代工業(yè)中，但由于它已適應新材料，因此仍正在不斷發(fā)展中。如今，通過精確制造2D材料的無機薄膜和可以共形沉積在各種基材上的高純度聚合物薄膜，CVD合成技術(shù)正被推向新的高度。

    CVD氣相沉積的高溫分解反應：

    CVD沉積反應里簡單直接的方式就是熱分解反應，其原理主要是固態(tài)化合物升溫到一定溫度會分解為固態(tài)目標產(chǎn)物和氣態(tài)副產(chǎn)物。操作步驟一般是向真空或惰性氣氛下的單溫區(qū)管式爐導入反應氣體，將爐溫升至化合物的分解溫度使之發(fā)生分解，在基片上沉積得到目標產(chǎn)物。熱分解反應的關(guān)鍵在于合適揮發(fā)源和分解溫度的選擇，尤其需要特別注意原材料在不同溫度下的分解產(chǎn)物。

    目前常使用的原料有氫化物、羰基化合物和金屬有機化合物等，因其化學鍵的解離能都普遍較小，易分解，分解溫度相對較低，尤其氫化物分解后的副產(chǎn)物是沒有腐蝕性的氫氣。熱分解反應主要適用于金屬、半導體、絕緣體等材料的制備。

    CVD氣相沉積的特點：

    ■采用多層隔板設計，批量處理模壓光學鏡片的碳鍍膜工藝，每爐可放數(shù)千個鏡片；

    ■智能化PLC程序升溫程序，真空程序，CVD進氣程序，操作簡單方便；

    ■優(yōu)化干式真空泵，杜絕油液污染，可選擇國產(chǎn)干式泵和進口干式泵；

    ■智能化CVD進氣控制系統(tǒng)，適應于氮氣、乙炔/甲烷、氬氣、空氣的通入和混合；

    ■先進的密封系統(tǒng)，泄漏率低，長期使用穩(wěn)定性高。

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