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當前位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >  制膜設備  >  磁控濺射鍍膜  >  VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

單靶磁控濺射儀
簡要描述:

VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個靶槍,可選擇強磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使

  • 產(chǎn)品型號:VTC-600-1HD
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2026-01-19
  • 訪  問  量:3936

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域環(huán)保,化工,石油,能源,電子/電池
    單靶磁控濺射儀主要特點:

    1、可選一個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。

    2、可制備多種薄膜,應用廣泛。

    3、體積小,操作簡便。

    技術參數(shù):

產(chǎn)品名稱 VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號 VTC-600-1HD
安裝條件 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風裝置:需要
主要參數(shù) 1、電源電壓:220V  50Hz
2、功率:<1KW(不含真空泵)
3、極限真空度:9.0×10-4Pa
4、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度)
5、靶槍數(shù)量:1個(可選配其他數(shù)量)
6、靶槍冷卻方式:水冷
7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)
8、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W.(靶電源種類可選,可選擇直流或射頻電源)
9、載樣臺:Ø140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實現(xiàn)更高質量的鍍膜。
10、載樣臺轉速:1rpm-20rpm內可調
11、工作氣體:Ar等惰性氣體
12、進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。
產(chǎn)品規(guī)格 1、主機尺寸:500mm×560mm×660mm
2、整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm
3、重量:160kg
4、真空室規(guī)格:φ300×300mm
標準配件 1、直流電源控制系統(tǒng)1套(可選)
2、射頻電源控制系統(tǒng)1套(可選)
3、冷水機1臺
4、冷卻水管(Ø6mm)4根
可選配件 1、金、銦、銀、白金等各種靶材
2、膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)
3、分子泵(德國進口)

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