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雙通道ALD管式爐系統(tǒng)ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統(tǒng)，包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發(fā)CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質子流量計控制系統(tǒng)。該管式爐系統(tǒng)簡潔的設計使得更多的科擔的低成本情況下實現(xiàn)ALD工藝實驗。
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